数字电子技术第7章半导体存储器.ppt
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1、(8-1)第七章第七章 半导体存储器半导体存储器7.1 概述概述7.2 只读存储器(只读存储器(ROM)7.3 读写存储器(读写存储器(RAM)7.4 存存 储储 器器 容容 量量 的的 扩扩 展展 7.5 用存储器实现组合逻辑函数用存储器实现组合逻辑函数(8-2)7.1 概述概述 半导体存储器是用来半导体存储器是用来存储二值数字信息存储二值数字信息的大规模的大规模集成电路。在电子计算机以及其他一些数字系统的工集成电路。在电子计算机以及其他一些数字系统的工作过程中,都需要对大量的数据进行存储。因此,存作过程中,都需要对大量的数据进行存储。因此,存储器也就成了这些数字系统不可缺少的组成部分。储器
2、也就成了这些数字系统不可缺少的组成部分。因为半导体存储器的存储单元数目极其庞大而器件因为半导体存储器的存储单元数目极其庞大而器件的引脚数目有限,所以在电路结构上就不可能像寄存的引脚数目有限,所以在电路结构上就不可能像寄存器那样把每个存储单元的输入输出直接引出。为了解器那样把每个存储单元的输入输出直接引出。为了解决这个矛盾,在存储器中决这个矛盾,在存储器中给每个存储单元编了一个地给每个存储单元编了一个地址址,只有被输入地址代码指定的那些单元才能与公共,只有被输入地址代码指定的那些单元才能与公共的输入的输入/输出引脚接通,进行数据的读出和写入。输出引脚接通,进行数据的读出和写入。由于计算机处理的数
3、据量越来越大,运算速度越由于计算机处理的数据量越来越大,运算速度越来越快,这就要求存储器具有更大的存储容量和更来越快,这就要求存储器具有更大的存储容量和更快的存取速度。所以通常把快的存取速度。所以通常把存储量和存取速度存储量和存取速度作为作为衡量存储器性能的衡量存储器性能的重要指标重要指标。(如。(如109位位/片,片,10ns)(8-3)存储器实际上是将大量存储单元按一定规律结合存储器实际上是将大量存储单元按一定规律结合起来的整体,它可以被比喻为一个由许多房间组成的起来的整体,它可以被比喻为一个由许多房间组成的大旅馆。每个房间有一个号码大旅馆。每个房间有一个号码(地址码地址码),每个房间,每
4、个房间内有一定内容内有一定内容(一个二进制数码,又称一个一个二进制数码,又称一个“字字”)。半导体存储器的种类很多,从存储功能上讲,可分半导体存储器的种类很多,从存储功能上讲,可分为只读存储器(为只读存储器(Read Only Memory,简称,简称ROM)和)和随机存储器(随机存储器(Random Access Memory,简称,简称RAM)两大类。两大类。从构成元件来说,又分为双极型和从构成元件来说,又分为双极型和MOS型。但鉴型。但鉴于于MOS电路具有功耗低,集成度高等优点,目前大电路具有功耗低,集成度高等优点,目前大容量的存储器都是采用容量的存储器都是采用MOS电路制作的。电路制作
5、的。(8-4)7.2只读存储器只读存储器(ROM)7.2.1掩模只读存储器掩模只读存储器 在采用掩模工艺制作在采用掩模工艺制作ROM时,其中存储的数据是时,其中存储的数据是由制作过程中使用的掩模决定的。这种掩模板是按照由制作过程中使用的掩模决定的。这种掩模板是按照用户的要求而专门设计的。因此,掩模用户的要求而专门设计的。因此,掩模ROM在出厂时在出厂时内部存储的数据就已经内部存储的数据就已经“固化固化”在里面了,不可更改。在里面了,不可更改。ROM的电路结构包含存储矩阵、地址译码器和的电路结构包含存储矩阵、地址译码器和输出缓冲器三个部分。输出缓冲器三个部分。(8-5)A1A0A1A0A1A0A
6、1A0A1A0D3D2D1D0-VCC译译码码器器K:输出输出控制端控制端存储存储矩阵矩阵输出输出电路电路位线位线字线字线A1A0A1A0A1A0A1A0A1A0译译码码器器(8-6)A1A0A1A0A1A0A1A0A1A0D3D2D1D0-VCC译译码码器器K:输出输出控制端控制端假设假设:A1A0 1110001100二极管二极管或门或门(8-7)A1A0A1A0A1A0A1A0A1A0D3D2D1D0-VCC译译码码器器K:输出输出控制端控制端1100二极管二极管或门或门1当某一字线当某一字线被选中时,被选中时,这个字线与这个字线与位线间若接位线间若接有二极管,有二极管,则该位线输则该位
7、线输出为出为 1。(8-8)假设假设:A1A0A1A0A1A0A1A0A1A0D3D2D1D0-VCC译译码码器器K:输出输出控制端控制端0101A1A0 10(8-9)假设假设:A1A0A1A0A1A0A1A0A1A0D3D2D1D0-VCC译译码码器器K:输出输出控制端控制端0101A1A0 01(8-10)假设假设:A1A0A1A0A1A0A1A0A1A0D3D2D1D0-VCC译译码码器器K:输出输出控制端控制端0011A1A0 00(8-11)000101111111111000000001地地 址址A1A0D3D2D1D0内内 容容位线位线A1A0A1A0A1A0A1A0A1A0D
8、3D2D1D0-VCC译译码码器器K:输出输出控制端控制端字线字线 输入任意一个输入任意一个地址码,译码器地址码,译码器就可使与之对应就可使与之对应的某条字线为高的某条字线为高电平,进而可以电平,进而可以从位线上读出四从位线上读出四位输出数字量。位输出数字量。(8-12)左图是左图是使用使用 MOS 管的管的ROM 矩阵:矩阵:有有 MOS 管的管的单元存储单元存储“1”,无无 MOS 管的管的单元存储单元存储“0”。.(8-13)7.2.2可编程只读存储器可编程只读存储器(PROM)有一种可编程序的有一种可编程序的 ROM,在出厂时全部存储,在出厂时全部存储“1”,用户可根据需要将某些单元改
9、写为,用户可根据需要将某些单元改写为“0”,然而只能改写一次,称其为然而只能改写一次,称其为 PROM。若将熔丝烧若将熔丝烧断,该单元则变断,该单元则变成成“0”。显然,。显然,一旦烧断后不能一旦烧断后不能再恢复。再恢复。前两种存储器的存储内容在出厂时已被完全固前两种存储器的存储内容在出厂时已被完全固定下来,使用时不能变动,称为定下来,使用时不能变动,称为固定固定 ROM。(8-14)编程时首先应编程时首先应输入地址代码,找输入地址代码,找出要写入出要写入0的单元的单元地址。地址。然后使然后使VCC和选中的字线提高和选中的字线提高到编程所要求的高到编程所要求的高电位电位,同时,同时在编程在编程
10、单元的位线上加入单元的位线上加入编程脉冲编程脉冲(幅度约(幅度约20V,持续时间约,持续时间约十几微秒)。这时十几微秒)。这时写入放大器写入放大器AW的输的输出为低电平,低内出为低电平,低内阻状态阻状态,有较大的,有较大的脉冲冲击电流流过脉冲冲击电流流过熔丝,将熔丝,将其熔断其熔断。(8-15)PROM 中的内容只能写一次,有时仍中的内容只能写一次,有时仍嫌不方便,于是又发展了一种可以改写多嫌不方便,于是又发展了一种可以改写多次的次的 ROM,简称,简称 EPROM。它所存储的。它所存储的信息可以用紫外线或信息可以用紫外线或 X 射线照射檫去,然射线照射檫去,然后又可以重新编制信息。后又可以重
11、新编制信息。存储容量存储容量:是是 ROM 的主要技术指标之一,它的主要技术指标之一,它一般用一般用 存储字数:存储字数:2N 输出位数:输出位数:M 来表示来表示(其中其中N为存储器的地址线根数为存储器的地址线根数)。例如:例如:128(字字)8(位位),1024(字字)8(位位)等等。等等。(8-16)7.2.37.2.3可重复编程只读存储器可重复编程只读存储器(EPROM)(EPROM)UVEPROM(Ultra-Violet UVEPROM(Ultra-Violet Erasable Programmable ROMErasable Programmable ROM)1)1)叠栅注入叠
12、栅注入MOSMOS管管原理:原理:在写入数据前在写入数据前:浮栅无电子,:浮栅无电子,SIMOSSIMOS管同正常管同正常MOSMOS管,开启电压为管,开启电压为V VT T。写数据时,需在漏、栅极之间加足够高的电压(如写数据时,需在漏、栅极之间加足够高的电压(如25V25V)使漏极与衬)使漏极与衬底之间的底之间的PNPN结反向击穿,产生大量的高能电子。这些电子穿过氧化结反向击穿,产生大量的高能电子。这些电子穿过氧化绝缘层堆积在浮栅上,从而是浮栅带有负电荷。浮栅有电子后,控绝缘层堆积在浮栅上,从而是浮栅带有负电荷。浮栅有电子后,控制栅需要加更大正压才能使管子开启,开启电压为制栅需要加更大正压才
13、能使管子开启,开启电压为V VT T。(Stacked-gate Injection Metal-Oxide-SemiStacked-gate Injection Metal-Oxide-Semi)VgsiD0VT VT(8-17)2)2)叠栅型叠栅型EPROMEPROM工作原理工作原理 图图7.2.9中写入数据时漏极和中写入数据时漏极和控制栅极的控制电路没有画出。控制栅极的控制电路没有画出。这是一个这是一个2562561 1位的位的EPROMEPROM,256256个存储单元排列成个存储单元排列成16161616矩阵。输入地址的高矩阵。输入地址的高4 4位加到位加到行地址译码器上,从行地址译
14、码器上,从1616行存储行存储单元中选出要读的一行。输入单元中选出要读的一行。输入地址的低地址的低4 4位加到列地址译码位加到列地址译码器上,再从选中的一行存储单器上,再从选中的一行存储单元中选出要读的一位。元中选出要读的一位。浮置栅上注入了电荷的浮置栅上注入了电荷的SIMOS管相当于写入了管相当于写入了1,未注入电荷的相当与存入了未注入电荷的相当与存入了0。出厂时,全部单元存出厂时,全部单元存“1”1”。(8-18)3)EPROM3)EPROM实例介绍(实例介绍(27162716)结构及引脚结构及引脚.A0A1A2A3行地址译码器行地址译码器行地址缓冲器行地址缓冲器列地址译码器列地址译码器列
15、地址缓冲器列地址缓冲器读出放大器读出放大器输出缓冲器输出缓冲器片选片选,功耗降低功耗降低和编程逻辑和编程逻辑CS_PD/PGMVppA4A5A6A7A8A9A10D7D6D5D4D3D2D1D0(8-19)2716 2716的工作方式的工作方式out(8-20)EEPROMEEPROM浮栅隧道氧化层浮栅隧道氧化层MOSMOS管(管(Floating gate Tunnel Oxide,Floating gate Tunnel Oxide,简称简称Flotox)Flotox管管 与与SIMOS管相似,它也属于管相似,它也属于N沟道增强型的沟道增强型的MOS管,管,并且有两个栅极并且有两个栅极控制
16、栅控制栅GC和浮置栅和浮置栅Gf。所不同的是。所不同的是Flotox管的浮管的浮置栅与漏区之间有一个氧化层置栅与漏区之间有一个氧化层极薄的极薄的区域区域。这个区域称为隧道区。这个区域称为隧道区。虽然用紫外线擦除的虽然用紫外线擦除的EPROMEPROM具备了可擦除重写的功能,但擦具备了可擦除重写的功能,但擦除操作复杂,擦除速度慢。为了克服这些缺点,又研制出了用除操作复杂,擦除速度慢。为了克服这些缺点,又研制出了用电可擦的可编程电可擦的可编程ROMROM。(8-21)当隧道区的电场强度大到一定的时候,便在漏区和浮置栅之间当隧道区的电场强度大到一定的时候,便在漏区和浮置栅之间出现导电隧道,电子可以双
17、向通过,形成电流。这种现象称为出现导电隧道,电子可以双向通过,形成电流。这种现象称为隧道效应。隧道效应。为了提高擦、写的可靠性,并保护隧道区超薄氧化层,在为了提高擦、写的可靠性,并保护隧道区超薄氧化层,在EEPROMEEPROM的存储单元中除的存储单元中除FlotoxFlotox管外还附加了一个管外还附加了一个选通管选通管,如,如图图7.2.117.2.11所示。所示。根据根据Flotox管的浮管的浮置栅上是否存有电荷置栅上是否存有电荷来区分单元的来区分单元的1或或0状状态。态。EEPROM在出厂时各在出厂时各存储单元均为存储单元均为1状态。状态。(8-22)在读出状态下,在读出状态下,GC上
18、加上加3V电压,字线电压,字线Wi给出给出5V的正常高电的正常高电平平,如图,如图7.2.12(a)所示。这时选通管所示。这时选通管T2导通,如果导通,如果Floatox管管的浮置栅上充有负电荷,则的浮置栅上充有负电荷,则T1截止,截止,Bi上读出上读出1。在擦除状态下,在擦除状态下,Flotox管的控制栅管的控制栅GC上加上加20V左右、宽度约左右、宽度约10ms的脉冲电压,漏区接的脉冲电压,漏区接0电平电平。这时经。这时经GC-Gi间电容和间电容和Gi-漏漏区电容分压在隧道区产生强电场,区电容分压在隧道区产生强电场,吸引漏区的电子通过隧道区吸引漏区的电子通过隧道区到达浮置栅,形成存储电荷到
19、达浮置栅,形成存储电荷,使,使Flotox管的开启电压提高到管的开启电压提高到7V以上,成为高开启电压管(表示写了以上,成为高开启电压管(表示写了1)。读出时)。读出时GC上的电压上的电压只有只有3V,Flotox管不会导通。管不会导通。(8-23)在写入状态下,应使写入在写入状态下,应使写入0的那些存储单元的的那些存储单元的Flotox管浮置栅管浮置栅放电。为此,在写入放电。为此,在写入0时令控制栅时令控制栅GC为为0电平,同时在字线电平,同时在字线Wi和和位线位线Bi上加上加20V左右、宽度约左右、宽度约10ms的脉冲电压的脉冲电压。这时浮置栅上。这时浮置栅上的存储电荷将通过隧道区的存储电
20、荷将通过隧道区放电放电,使,使Flotox管的开启电压降为管的开启电压降为0V左右,成为低开启电压管(左右,成为低开启电压管(表示写了表示写了0)。读出时,)。读出时,GC上加上加3V电压,电压,Flotox管为导通状态。管为导通状态。EEPROM是按字节写入或擦除的。是按字节写入或擦除的。虽然虽然EEPROM改用电压信号擦除了,但由于擦除和写入时改用电压信号擦除了,但由于擦除和写入时需要加高压脉冲,而且擦、写的时间仍叫长,所以在系统正需要加高压脉冲,而且擦、写的时间仍叫长,所以在系统正常工作状态下,常工作状态下,EEPROM仍然只能工作在它的读出状态,作仍然只能工作在它的读出状态,作ROM使
21、用。使用。3、快闪存储器(、快闪存储器(Flash Memory)从上面对从上面对EEPROM的介绍中可以看出,为了提高擦除和写的介绍中可以看出,为了提高擦除和写入的可靠性,入的可靠性,EEPROM的存储单元用了两只的存储单元用了两只MOS管。这无管。这无疑将限制了疑将限制了EEPROM的集成度的进一步提高。快闪存储器的集成度的进一步提高。快闪存储器采用了类似于采用了类似于EPROM的单管叠栅结构的存储单元,制成了的单管叠栅结构的存储单元,制成了新一代用电可擦可编程新一代用电可擦可编程ROM。(8-24)快闪存储器既吸收了快闪存储器既吸收了EPROM结构简单、编程可靠的优点,又结构简单、编程可
22、靠的优点,又保留了保留了EEPROM用隧道效应擦除的快捷性,而且集程度可以作用隧道效应擦除的快捷性,而且集程度可以作得很高。得很高。(8-25)闪存储器中闪存储器中仅为仅为1015mm。而且浮置栅与源区。而且浮置栅与源区重叠的部分重叠的部分是由是由源区的横向扩散形成的,源区的横向扩散形成的,面积极小面积极小,因而,因而浮置栅浮置栅-源区间的电容源区间的电容要比要比浮置栅浮置栅-控制栅间的电容小得多控制栅间的电容小得多。当控制栅和源极间加上电。当控制栅和源极间加上电压时,压时,大部分电压都将大部分电压都将降在浮置栅与源极之间的电容上降在浮置栅与源极之间的电容上。这。这有有利于提高擦、写速度利于提
23、高擦、写速度。快闪存储器的存储单元就是用这样一只快闪存储器的存储单元就是用这样一只管子组成的。管子组成的。在读出状态下在读出状态下,字线给出,字线给出5V的逻辑高电平,存储单元公的逻辑高电平,存储单元公共端共端VSS为为0电平。如果电平。如果浮置浮置栅上栅上没有充电没有充电,则叠栅,则叠栅MOS管管导通导通,位线上,位线上输出低电平输出低电平;如果如果浮置栅上浮置栅上充有负电荷充有负电荷,则则叠栅叠栅MOS管管截止截止,位线上,位线上输出高电平输出高电平。(8-26)快闪存储器的写入方法和快闪存储器的写入方法和EPROMEPROM相同相同,即利用雪崩注入的,即利用雪崩注入的方法使浮置栅充电。在
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